IM4000Ⅱ標(biāo)準(zhǔn)離子研磨儀使用低能量Ar離子束，加工無應(yīng)力損傷的樣品截面，為SEM觀察樣品的內(nèi)部多層結(jié)構(gòu)、結(jié)晶狀態(tài)、異物解析、層厚測量等提供有效的樣品前處理方法?；虺悠繁韺?，加工出低損傷平面。

離子研磨儀標(biāo)準(zhǔn)機型能夠進行截面研磨和平面研磨。還可通過低溫控制及真空轉(zhuǎn)移等各種選配功能，針對不同樣品進行截面研磨。

IM4000Ⅱ標(biāo)準(zhǔn)離子研磨儀設(shè)備特點：

高效研磨

配備截面研磨能力達到500µm/h*1以上的高效率離子槍。即使是硬質(zhì)材料，也可以高效地制備出截面樣品

截面研磨

即使是由不同硬度以及研磨速度材質(zhì)所構(gòu)成的復(fù)合材料，也可以制備出平滑的研磨面

優(yōu)化加工條件，降低因離子束所致樣品的損傷

可裝載20mm(W)×12mm(D)×7mm(H)的樣品

平面研磨

直徑約為5mm范圍內(nèi)的均勻加工

應(yīng)用領(lǐng)域廣泛

可裝載直徑50mm×高度25mm的樣品

可選擇旋轉(zhuǎn)和擺動（±60度，±90度的擺動）2種加工方法。